KLA-Tencor发射PlasmaVolt X2来测量等离子室效应

苗必达,加州——(业务线)

KLA-Tencor公司(纳斯达克代码:KLAC)今天推出了用于测量半导体晶圆加工系统中等离子体室条件的PlasmaVolt(TM) X2。随着嵌入式传感器数量的增加和空间分辨率的提高，PlasmaVolt X2对各种参数的变化高度敏感，如射频(RF)功率、气体流量、磁场和室设计。这种等离子体行为测量和表征系统能够增强室对室匹配、工具鉴定、系统故障排除和生产环境的工艺开发。

“PlasmaVolt X2是我们SensorWafer(TM)系列的重要补充，工程师现在可以获得一个独特的、晶片级的等离子体相关效应的指纹，”KLA-Tencor公司的高级副总裁兼总经理Larry Wagner说。“PlasmaVolt X2是目前唯一可用的晶圆级等离子体健康测量方法。”

目前，蚀刻工程师面临的关键挑战是如何匹配蚀刻腔，以实现整个工具集的一致性能，而蚀刻性能取决于多种工艺参数的控制，包括等离子体均匀性。随着半导体行业转向先进的设计规则，工艺窗口继续缩小，使得等离子体对参数的微小变化越来越敏感。目前，蚀刻速率和均匀性通常是在产品或假晶圆上测量的，这一过程可能需要长达12小时。这种晶圆测试对整个蚀刻过程只产生一个结果，使工程师无法看到蚀刻序列中的其他步骤。

PlasmaVolt X2在等离子体室中测量“晶圆上方”效应，并提供整个蚀刻过程中等离子体行为的详细信息。测量后可立即得到结果，减少了数小时的结果时间。有了这些完整的腔室信息在手，蚀刻工程师现在可以比较整个晶圆厂的腔室，并作出必要的工艺调整。与KLA-Tencor公司的用于温度测量的PlasmaTemp G4相配合，PlasmaVolt X2是有效绘制完整等离子体室的最佳工具，用于工具监测、工具鉴定和工艺开发应用。

关于KLA-Tencor公司:KLA-Tencor公司是全球领先的半导体和相关微电子行业过程控制和良率管理解决方案供应商。公司总部位于加利福尼亚州米尔皮塔斯，在世界各地设有销售和服务办事处。beplay官网ued作为标准普尔500公司beplay官网ued，KLA-Tencor在纳斯达克股票市场交易，代码为kac。有关该公司的更多信息，请访问beplay官网ued//m.lisalozano.com．(KLAC-P)

plasmavwalt和SensorWafer是KLA-Tencor Corporation的商标。

来源:KLA-Tencor公司

2008年10月14日发布