KLA-Tencor使用SensArray Etch测量套件扩展了计量组合

加利福尼亚州圣何塞 - （商业资讯） -

KLA-Tencor Corporation（NASDAQ：KLAC）为其Sensarray（TM）晶圆级计量工具（称为Plasmawafer（TM）Suite引入了独特的应用程序有助于验证血浆蚀刻室健康，并迅速识别出诸如漂移，不均匀性和室内匹配略有差异之类的问题。

KLA-Tencor的SensorWafer技术能够非常快速地衡量关键的芯片内过程条件，这是该公司广泛的计量组合的重要补充。beplay官网ued通过将来自Plasmawafer Suite的SensorWafer数据与公司检查和计量系统的结果相结合，芯片制造商可以访问新型的流程信息，使他们能够监视和更beplay官网ued好地了解其蚀刻系统的操作条件。

“传感员正在成为精确测量等离子蚀刻，岩石/轨道细胞，湿过程，CVD（1），PVD（1），CMP（1），CMP（1）和RTP（1）的技术中精确测量晶圆级工艺条件的首选方法（1），” KLA-Tencor的增长和新兴市场（GEM）集团副总裁兼Sensarray总经理Jeff Donnelly说。“我们正在与每个区域的顶级逻辑，记忆和铸造芯片制造商以及等离子蚀刻系统供应商一起工作，以帮助他们使用浆质套件来提高蚀刻系统的生产力。”

作为关键的蚀刻图案公差快速方法原子级维度，即使是以前无法检测到的过程变化也可以为芯片制造商造成设备性能问题。但是，蚀刻后计量或电测试不能精确地测量特定的蚀刻室条件或提供有关过程问题的根本原因信息。专业的传感器测量能力可以显着增强65nm且低于生产的蚀刻工具操作，并减少维护，恢复和资格时间。

在临界层中使用的蚀刻工艺室需要频繁的监视和预防性维护以实现一致的操作，因为即使是流程或腔室之间的细微差异也会影响设备的产量和性能。KLA-Tencor的Plasmawafer Suite由高精度温度测量传感器组成，称为浆膜（TM）和第二种称为Plasmavolt（TM）的类型，可以直接测量晶片表面的浆电压系统和其他关键腔室组件。可重复使用的SensorWafers具有KLA-Tencor对Sensarray Corporation和Onwafer Technologies的收购技术。

传感员是含有广泛测量仪器的晶圆，它们插入蚀刻室内，它们从快速变化的蚀刻环境中捕获高精度，时间序列温度和等离子体数据。通过连续测量以小于0.2度C的精度或提供详细的等离子体测量值的跨磁力温度变化，这些具有成本效益的产品可帮助客户在复杂的多步骤过程中找到问题。这项先进的技术还可以通过减少昂贵的测试晶片的消耗以及提高正常运行时间和蚀刻系统的可用性来降低制造成本。

支持故障诊断过程和协助the engineer in determining the root cause of problems, the PlasmaWafer Suite includes an advanced diagnostic module, called the PlasmaSuite Data Analysis Package, that features statistical process control (SPC), subsystem-level troubleshooting and detailed characterization of critical process parameters. The SensorWafers come in their own instrumented SmartFOUP360ez, so they can be loaded into the chamber just like a production or monitor wafer.

关于KLA-Tencor：KLA-Tencor是半导体制造和相关行业的产量管理和过程控制解决方案的世界领导者。该公司总部位于加利福尼亚州圣何塞，在全球设有销售和服务办事处。beplay官网uedKLA-Tencor的beplay官网ued一家标准普尔500指数公司在纳斯达克全球精选市场上以KLAC符号进行交易。有关公司的其他信息可在beplay官网ued//m.lisalozano.com。

（1）CVD =化学蒸气沉积；PVD =物理蒸气沉积；CMP =化学机械平面化；RTP =快速热处理

资料来源：KLA-Tencor Corporation

2007年12月17日发行