KLA-Tencor提高45nm缺陷捕获，加倍吞吐量与新的内存和逻辑特定的亮场检测系统

加州圣何塞-- -- -- -

KLA-Tencor(纳斯达克代码:KLAC)今天推出了其最新的28xx亮场检测平台，该平台采用了特殊的光学配置，解决了sub-55nm内存和sub-45nm逻辑芯片制造商的独特缺陷检测挑战。2810存储系统和2815逻辑系统都依赖于kak - tencor行业领先的全光谱照明技术，以捕捉尽可能广泛的缺陷类型，包括屈服临界浸蚀光刻缺陷。与之前的2800套系统相比，该系统的生产能力在许多应用中灵敏度提高了一倍以上。

“在55nm/45nm条件下，存储芯片和逻辑芯片的检测要求变得非常不同。在这两种情况下，芯片制造商都需要更高的检测灵敏度，以捕获所有感兴趣的缺陷，以及更高的速度，以快速提升新工艺。”“我们新的、专业的2810和2815亮场检测工具，使存储和逻辑芯片制造商能够将他们的检测策略集中在他们特定的尖端设备中发现的低成品率缺陷类型上。2810和2815具有灵敏度和灵活性，可以在所有关键层上发现所有感兴趣的缺陷，计算速度是现有产品的两倍，从而加快了产品上市时间。”

2815系统引入了一套广泛的硬件和算法工具集，可以解决特定于逻辑设计的缺陷。该系统的专用光学模式具有业界最小的像素，旨在实现对复杂几何形状和低于45nm的新材料的最广泛的缺陷类型捕获。对于55nm以下的内存应用，新的2810检测系统具有内存专用的光学模式和算法，能够检测桥、空洞和其他阵列(重复)和外围(非重复)结构上的关键缺陷。

由于捕获所有关键缺陷所需的最佳检测波长因材料、图案几何形状和设计规则而异，281x系列工具利用可调的全光谱光源，覆盖DUV、UV和可见波长。该技术提供了最佳的缺陷对比度、干扰抑制和高分辨率，以在扩展范围的层、设备和设计规则上检测关键缺陷。新的易用性特性，2810和2815共同的，减少了检查员的配方优化时间大约50%。281x系统在自动缺陷分拣方面的进步进一步提高了缺陷Pareto的质量，能够更快地识别和解决根本原因。

建立在KLA-Tencor' 2800平台的市场领导地位之上，该平台于2005年推出，新的2810/2815系统已交付给所有芯片制造地区的客户，它们被安装在内存和逻辑应用程序。许多客户已经依赖于该系统先进的全光谱照明技术来管理浸没式光刻机组的缺陷。

关于KLA-Tencor: KLA-Tencor是全球领先的半导体制造及相关行业的产量管理和过程控制解决方案。公司总部位于美国加利福尼亚州圣何塞市，在全球设有销售和服务办事处。beplay官网ued作为标准普尔500公司beplay官网ued，KLA-Tencor在纳斯达克全球精选市场交易，代码为kac。有关本公司的更多信息，请浏览beplay官网ued//m.lisalozano.com．

来源:KLA-Tencor

2007年6月26日发布