KLA-Tencor采用新的Puma 9150检测系统，扩展了行业的暗场检测基准

加州圣何塞-- -- -- -

KLA-Tencor (NASDAQ:KLAC)今天推出了Puma 9150系统，这是该公司在暗场图晶圆检测技术方面的最新进展，具有新的beplay官网ued光学模式，可以捕获45nm及以上生产中更广泛的产量关键缺陷。与此同时，彪马9150提供了最高的可用暗场生产吞吐量，降低了操作成本，并允许更严格的过程控制更高的采样率。

“在45nm工艺中，由于尺寸的缩小、新材料和创新的器件结构，客户面临着越来越大的产量挑战。同时，他们也必须尽可能快速和经济地提高晶圆产量。”“由于新的光学模式使改进的缺陷型捕获成为可能，彪马9150再次提高了行业的暗场检测能力。彪马9150独特的性能和速度结合，为客户提供了任何暗场技术中最快、最具成本效益的更高设备产量路径。”

“美洲狮”9150提供了低轮廓，大面积缺陷的增强捕获，例如铜CMP的欠抛光和浆液残渣。它也改善了蚀刻应用中的暗场缺陷捕获，如微桥和部分或完全封闭的通孔。

东芝大分公司材料与工艺工程组经理Masanori Numano表示:“我们对KLA-Tencor公司的新Puma 9150系统的评估和beta测试表明，该系统具有更高的灵敏度和更高的缺陷捕获能力，包括我们之前的暗场系统没有发现的铜CMP层中的低轮廓线短缺陷。我们已经开始在我们最先进的生产线上使用该系统。”

在2006年9月推出的Puma 9110/9130系统的成功基础上，KLA-Tencor已经将Puma 9150系统交付给所有芯片制造地区的内存和逻辑客户，包括多个芯片制造工厂的多系统。该系统已用于65nm制程、45nm匝道制程和45nm以下制程的研发。作为暗场检测市场的领先平台，彪马系列系统已在全球20大芯片制造商中有18家安装。为了保护芯片制造商在光学检测方面的投资，所有Puma 91xx系统都可以现场升级到9150个规格。

彪马9150是KLA-Tencor为45nm节点及以上产品提供的创新缺陷控制解决方案的一个组成部分。该产品组合包括亮场和暗场光学检测、电子束检测和广泛的专业软件工具，能够准确地识别和分类缺陷类型，实现快速的纠正行动，提高芯片制造商的产量和利润率。

关于KLA-Tencor: KLA-Tencor是全球领先的半导体制造及相关行业的产量管理和过程控制解决方案。公司总部位于美国加利福尼亚州圣何塞市，在全球设有销售和服务办事处。beplay官网ued作为标准普尔500公司beplay官网ued，KLA-Tencor在纳斯达克全球精选市场交易，代码为kac。有关本公司的更多信息，请浏览beplay官网ued//m.lisalozano.com．

Puma 9150技术概述在光学技术领域引领行业，增强灵敏度的新光学模式

除了传统的单场和双暗场光学模式外，彪马9150还集成了新的暗场和边场光学模式。这些多光学模式在扩展的应用空间中提供了改进的缺陷类型捕获。

条纹(TM)暗场成像技术

高分辨率的暗场成像是由线扫描与多像素传感器相结合产生的。这种创新技术可以在不影响产量的情况下实现高灵敏度检测。

最高灵敏度暗场检查

凭借新的光学模式和Streak暗场成像技术，彪马9150在最高的生产吞吐量下捕获了最广泛的缺陷类型，解决了一套全面的生产线和工具监测应用。该系统具有独特的光学特性，最大限度地提高了表面选择性和噪声抑制能力，可以有效地检测薄膜层上的缺陷。多光学模式允许在蚀刻过程中增加对桥接、短路和其他图案缺陷的灵敏度，并提供了从CMP中更好地捕获残留和其他关键缺陷。对于光电池监测和显影后检查，彪马9150还提供了宽带亮场检查的高采样选项。

提高Fab生产率，最大生产能力范围

彪马9150的数据速率大约是彪马9000的2倍，这导致了更高的吞吐量。这种数据速率的提高，加上专有的Streak技术，可以在任何暗场检测工具所需的灵敏度下产生最高的产量，从而提高采样率或降低拥有成本。

灵活的配置

Puma 9150具有多个像素选项和几个独特的光学模式，旨在为最广泛的应用提供最佳配置，满足晶圆厂特殊的灵敏度、吞吐量和成本要求。

时间的结果

通过多种光学模式、可选择的入射和收集偏振、傅里叶滤波器和创新算法，获得了优越的干扰抑制。这与内联缺陷管理器(iDO(TM);自动化的缺陷分类)，以减少获得有意义的结果的时间，并将资源集中在最关键的产量问题上。

高效的Fab Operations共性和连接性

彪马9150与KLA-Tencor公司的宽带亮场和电子束检测仪共享一个共同的平台和用户界面。这促进了混合搭配检验策略，加速了生产整合，并减少了配方创建和操作人员培训所需的时间。

快配方设置

FAST算法和Brightfield配方导入减少了优化参数的数量，并消除了几个配方设置步骤。使用这些特性，彪马9150的配方设置时间自引进彪马9000以来减少了70%以上。Puma 9150配方也可以在KLA-Tencor SEM审查站进行离线优化，保护检查员的能力，并进一步减少配方优化周期时间。总的来说，这些易于使用的改进使作业者能够在不需要工程监督的情况下优化配方，在生产过程中更快、更便宜地修改配方。

匹配

经过生产验证的工具对工具的匹配在每个Puma系统上提供相同的结果，而无需修改检查配方。

来源:KLA-Tencor

2007年6月19日发布