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레티클제조

레티클제조

레티클결함또는패턴분류오류의경우생산웨이퍼상의다수의다이에서복제가능하기때문에오류가없는레티클(포토마스크또는마스크로도알려짐)은높은수준의반도체소자수율을달성하는주요한요소를나타냅니다。레티클은블랭크위에생산됩니다。쿼츠기판이흡수박막을통해증착됩니다。解放军의레티클검사,계측및데이터분석시스템포트폴리오는블랭크,레티클및IC제조업체들이레티클결함과패턴분류오류를파악하여수율리스크를줄이도록지원합니다。

카테고리

Teron™6xx.

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Teron™6xx.

마스크샵애플리케이션용용레티클결함사시스템

涤纶聚酯纤维™640 e레티클검사제품라인은주요패턴과이물결함을검출하여마스크샵내의193海里패턴레티클과첨단EUV의인증및개발을진행시킵니다。해당검사시스템은다이-투데이터베이스또는다이-투다이모드를활용하여최신7海里및5 nm소자노드에서복잡한OPC구조특성과다양한스택소재를처리하기위해설계되었습니다。涤纶聚酯纤维640 e는레티클제조사이클타임을가속화하는데필요한처리량과결함검출사양을지원하는여러광학및이미지처리개선사항을결합시킵니다。또한涤纶聚酯纤维640 e제품라인은EUV마스크생산에필수적인엄격한청결도요구사항을달성합니다。

응용분야
레티클인증，레티클공정제어，레티클공정장비모니터링，출고레티클품질확인
관련상품

Teron 640.：10nm노드및향후노드에서및euv레티클을을사하기위한산업생산표준。

涤纶聚酯纤维630：1xnm / 2xhp광학광학euv레티클을을을사하기하기위한산업생산

涤纶聚酯纤维610: 2 xnm / 3 xhp광학레티클을검사하기위한산업생산표준。

TeraScan™500 xr：3xnm / 4xhp광학레티클을을사하기위한산업표준。

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Teron™SL6xx.

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Teron™SL6xx.

集成电路晶圆厂애플리케이션을위한레티클결함검사시스템

teron™sl655는입고레티클품질을가하고하고에사용중및레티클후에레티클재인증하기사용되어이있는있는이퍼퍼를하는를감소시킴으로써제조업체들이수율을확보하도록지원제조업체들제조업체들을을확보하도록지원。星星光黄金™기술을보유한涤纶聚酯纤维SL655는10 nm디자인노드및향후노드에서완전한범위의마스크유형(CPL, ILT EUV등)상에서헤이즈성장또는오염등의수율에중대한영향을주는레티클결함및레티클저하를모니터링하기위해필요한민감도를제공합니다。또한涤纶聚酯纤维SL655는산업을선도하는생산처리량수준을보유하여첨단IC디자인노드와관련된증가하는수의레티클을인증하는데필요한신속한사이클타임을지원합니다。

응용분야
레티클재인증，입고레티클품질확인
관련상품

涤纶聚酯纤维SL650: 20 nm디자인노드IC기술을위한레티클검사시스템。

X5.3.:≥20 nm디자인노드IC기술을위한중대한영향을미치지않는레티클에대한레티클검사시스템。

Ra（레티클분석기）：IC Fab를위한레티클데이터분석시스템시스템으로써자동결함，litho평면리뷰및결함변화등의애플리케이션애플리케지원지원지원지원지원

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FlashScan.®

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FlashScan.®

레티클블랭크결함검사시스템

FlashScan.®211마스크블랭크결함결함사시스템은마스크샵및블랭크이광학및euv litho애플리케이션의마스크블랭크요구사항을충족지원합니다합니다。flashscan 211시스템은kla의고감도를비교가능한수준의사속도및자동결함와결합하여한한이션이결과에애플리케애플리케시간을을을줄여줍니다줄여줍니다줄여줍니다줄여줍니다애플리케애플리케애플리케애플리케애플리케줄여줍니다을줄여줍니다줄여줍니다줄여줍니다줄여줍니다줄여줍니다줄여줍니다줄여줍니다애플리케애플리케애플리케

응용분야
마스크블랭크제조,마스크블랭크인증,레티클공정제어,레티클공정장비모니터링
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LMS IPRO.

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LMS IPRO.

레티클패턴등록계측시스템

LMS IPRO7레티클등록계측시스템은7海里디자인노드에서광학레티클및EUV에대한패턴분류성능의빠르고정확한검증을제공하기위해설계되었습니다。LMS IPRO7은레티클패턴분류오류의종합특성화를제공함으로써첨단디자인노드레티클의생산및개발중레티클품질관리및전자빔마스크가공기교정에사용되는데이터를생성합니다。解放军의고유의모델기반계측알고리즘을사용하는LMS IPRO7은다수의온디바이스기능과타겟모두에대해높은정확도로패턴분류오류를측정하여IC工厂내소자오버레이오류에대한레티클관련기여도를감소및특성화하도록합니다。

응용분야
레티클인증，출고레티클품질품질，마스크가공기인증인증및，레티클레티클공정，웨이퍼페터닝페터닝
관련상품

LMS IPRO6: 10 nm디자인노드를위한마스크계측시스템으로써표준등록마크및온디바이스패턴기능측정을모두지원합니다。

LMS IPRO4: 32 nm / 28 nm디자인노드를위한마스크계측시스템。산업고유의처리역량을보유한LMS IPRO4는4“부터”8치수의마스크를지원합니다。연락처버튼을클릭하면신규및리퍼비시시스템에대한추가정보를보실수있습니다。

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MaskTemp™2

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MaskTemp™2

原位레티클온도측정시스템

masktemp™2原位레티클온도측정시스템전자가공기공기및고온고온공정단계의모니터링및인증을위해샵사용됩니다마스크를완전히인쇄하려면긴시간（최대24시간）동안극한온도안전성이필요하기때문에MaskTemp 2는전자빔마스크가공기인증과정에서중요한역할을수행합니다。전자빔마스크가공기에서masktemp 2는24시간동안연속적온도데데를수집하고중대한미칠수미칠수마스크인쇄전에의안정성안정성확보하기위해한데데데데제조업체제조업체에게제공제공합니다제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공제공또한面具temp 2는후노광베이크특성화，열판온도산포모니터링，열판매칭과과고온공정이션을을지원하여마스크마스크줄있는레티클품질영향을줄있는후공정온도변화를시키고파악하도록온도하도록파악하도록하도록

응용분야

전자빔마스크가공인증,공정개발,공정제어,공정인증,공정모니터링,공정툴인증,공정툴매칭

전자빔마스트가공|20-40°C.
후노광베이크| 20 - 140°C

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RDC

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RDC

레티클데이터분석및관리

rdc（레티클레티클센터）종합종합이터분석및관리시스템은인증을위한다수의레티클레티클사및및계측플랫폼을지원지원rdc는자동화결함분류결정을하고사이클타임을을개선하며수율에을줄수있는레티클관련오류를감소시키는다양다양한의를감소시키는시키는한유형의션를감소시키는rdc는필수애플리케이션을을제공하는것외로높은수준의신뢰성과유연한서버을활용하는중앙중앙중앙데을시스템하는하는의역할을담당담당담당활용하는하는하는

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Klarity®

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Klarity®

자동화결함및수율데이터분석

Klarity®缺陷자동화자동화결함분석및및터관리시스템은시스템의을담당담당수율학습주기를가속화시킵니다。klarity缺陷을을klarity®SSA（공간공간시그니처）Klarity®ACE XP첨단수율분석시스템은은그리고그리고걸쳐수율가속화속화수율학습을검출，검출검출，유지검출공유지원합니다。klarity시스템은직관적결정흐름흐름분석을하여이很多엔지니어들분류，리뷰샘플링，결함결함분석，spc설정및관리와사고알림등의의이션을지원하는맞춤형분석을을수립수있도록있도록있도록있도록있도록합니다klarity缺陷，klarity ssa및klarity xp는자동적으로결함사，분류분류리뷰데데데관련근인및수율분석정보하는하는하는klarity데이터ic ic，패키징，컴파운드세미및hdd제조업체가신속하게시정조치를수율가속하고화하고시장를앞당길수있도록지원지원

응용분야

결함결함이터분석，웨이퍼분류，공정및툴공정사고파악，공간시그니처분석，수율분석，수율수율

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