- 样本计划优化
- I-PAT™ 在线模具级筛选
资料分析
资料分析
KLA的数据分析系统集中和分析检验、计量和工艺系统产生的数据。利用先进的数据分析、建模和可视化功能,我们全面的数据分析产品套件支持运行时过程控制、缺陷偏移识别、晶圆和分划板处理、扫描仪和过程校正以及缺陷分类等应用。通过向芯片和晶圆制造商提供相关根本原因信息,我们的数据管理和分析系统加快了产量学习速度,降低了生产风险。
克劳利®
对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们克劳利®
自动缺陷和成品率数据分析
克劳利®缺陷自动缺陷分析和数据管理系统通过实时偏差识别帮助工厂实现更快的产量学习周期®Klarity缺陷的SSA(空间特征分析)分析模块提供了指示过程问题的缺陷特征的自动检测和分类。克劳利®ACE XP高级产量分析系统帮助晶圆厂在晶圆厂内部和晶圆厂之间获取、保留和分享产量学习,以加速产量。Klarity系统利用直观的决策流分析,允许工程师轻松创建定制分析,以支持诸如批次处理、审查采样、缺陷源分析、SPC设置和管理以及偏差通知等应用。Klarity缺陷、Klarity SSA和Klarity ACE XP形成了一个工厂范围的成品率解决方案,可自动将缺陷检查、分类和审查数据减少到相关的根本原因和成品率分析信息。Klarity数据有助于IC、封装、复合材料和硬盘制造商更快地采取纠正措施,从而加快产量和更好的上市时间。
RDC
对这个产品感兴趣还是有问题?
联系我们RDC
十字线数据分析与管理
RDC(网线决策中心)综合数据分析和管理系统支持多个用于网线鉴定的KLA网线检查和计量平台。RDC提供了一系列广泛的应用程序,这些应用程序可以驱动自动缺陷处理决策,提高周期时间,并减少可能影响产量的与十字线相关的图案错误。除了提供关键应用程序外,RDC还利用高可靠性、灵活的服务器配置作为中央数据管理系统。
- 整合所有检验、计量和审查系统的数据审查和分析
- 自动对十字线检查员检测到的缺陷进行分类
- 模拟网线检查员检测到的缺陷的晶圆印刷适性
- 分析十字线再鉴定检查期间的十字线雾度和修复退化
- 通过对缺陷航空图像的综合分析,预测晶圆印刷的影响
- 基于掩模SEM图像对EUV缺陷进行分类和模拟
- 为集成LMS IPRO注册测量,在EUV面罩上的预期目标位置处/周围提供备用可测量位置
- 优化193nm检查源条件,使EUV内存掩模具有最佳缺陷灵敏度
- 建立精确的电子束图像模型,作为单模分划板维修的参考
- 在单个模具设计数据库中搜索目标位置的重复模式,以用作维修处置的参考