薄膜测量系统

薄膜测量系统

的Filmetrics®一系列价格合理的反射计可在几秒钟内提供高精度薄膜厚度测量。这些易于使用的工具,结合智能软件和广泛的附件和配置,在1nm到3mm的膜厚测量中提供了最大的通用性。

即将举行的活动

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2021年10月19日太平洋时间上午10:00(美国和加拿大)

通过玻璃测量表面形貌

太平洋时间2021年10月20日上午09:00(美国和加拿大)

薄板电阻测量的光斑尺寸和横向分辨率

2021年11月9日太平洋时间上午10:00(美国和加拿大)

多接口的Profilm3D

太平洋时间2021年11月18日08:00(美国和加拿大)

使用坎德拉降低通信和传感用GaAs、InP和其他化合物半晶片的缺陷®

太平洋时间2021年12月8日上午09:00(美国和加拿大)

微电子显示涂层的纳米划痕与测试后3D轮廓术

电影测量学F10-AR

设计用于简单、经济的眼科防反射涂层和硬涂层厚度测量。

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Filmetrics F10-ARc

便携式反射计,内置光纤,用于测量曲面,包括抗反射涂层,采用专利的长寿命低功率光源。在几秒钟内即可测量颜色、反射率和膜厚,价格仅为原来的一小部分。

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Filmetrics F10-HC

全世界的汽车硬涂层公司都依赖于测量平面和曲面上的硬涂层厚度。

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电影测量学F10-RT

同时测量反射率和透射率;支持计算薄膜厚度和折射率。

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Filmetrics F20

多功能,经济适用的通用薄膜厚度和折射率测量系统。

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电影测量学F3 sX

利用近红外(NIR)光测量厚度达3mm的半导体和电介质层。F3 sX使用近红外(NIR)光测量层厚度。

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电影测量学F3-CS

用于测量小样本涂层厚度的小型便携式工具,如聚乙烯涂层卷板。

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Filmetrics + 30

提供沉积速率、薄膜厚度和光学常数(n和k)的现场实时测量,用于分析薄膜均匀性以及半导体和电介质层的组成。

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Filmetrics F32

实时测量沉积速率、薄膜厚度、光学常数和均匀性,最多可同时测量4个点。

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Filmetrics F40

包括一个集成的实时摄像机,与显微镜光学系统相结合,以产生一个小到1µm的膜厚测量点,用于测量有图案、弯曲和不均匀的样品。

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Filmetrics +

使用自动R-θ台快速、自动绘制晶圆尺寸的薄膜厚度图,最高可达300毫米,每个位置最快为0.5秒。

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Filmetrics F54

将F40的小测量光斑尺寸与集成相机相结合,使用R-Theta平台自动绘制直径达300mm的晶圆。F54先进光谱反射率系统可快速方便地绘制直径高达450mm的样品薄膜厚度。

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Filmetrics f54 - xy - 200

F54-XY-200是一种自动台式绘图系统,用于测量薄膜厚度、折射率、反射率、吸收和表面粗糙度。五种配置包括从4nm到120µm的薄膜厚度,光斑大小从2µm到100µm。

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电影测量学F60-t

通过自动切口检测、自动板上基线和SECS/GEM工厂自动化软件,将薄膜厚度和指数测量应用到生产环境中。

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寻找用于半导体芯片制造的椭偏计薄膜厚度工具?

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技术文献

浏览KLA仪器应用工程师和客户的应用说明和技术论文,涵盖KLA仪器产品的各种用例。

勘探

时间轴上的创新

从1995年推出第一款薄膜测量仪器开始,Filmetrics的技术专家一直在继续生产关键的创新产品,如AutoBaseline,使用薄膜厚度图像进行模式识别,并内置自动波长校准。二十多年来,Filmetrics提供的创新技术和无与伦比的应用支持为客户提供了可重复和可靠的薄膜计量测量。了解更多关于创新的丰富历史,了解为什么薄膜测量反射计是薄膜测量的标准。

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仪器

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缺陷检查员

的烛光®复合半导体和硬盘驱动器的检测系统可以帮助工程师在通信和网络、LED、电力设备、传感、太阳能、光伏和数据存储等应用领域实现显著的产量和工艺改进。

纳米压头

KLA Instruments纳米压头组合提供了精确、可靠和可重复的测试,以在广泛的测试条件下表征材料的静态和动态力学性能。

光学分析器

的Profilm3D®和ζ™️️光学轮廓仪利用干涉仪和ZDot,为三维台阶高度、粗糙度和其他表面形貌测量提供快速、非接触式解决方案测量技术。

薄板电阻映射器

的Filmetrics®基于45多年的电阻测量创新和技术专业知识,开发了薄板电阻绘图仪器。

触针轮廓仪

的Alpha-Step®, TencorP系列与HRP®触针式轮廓仪可实现高精度、二维和三维表面计量。触针轮廓仪可测量台阶高度、粗糙度、弯曲度和应力,其稳定性和可靠性达到业界领先水平,满足您的研发和生产计量要求。

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