认证和再制造

缺陷检查

Surfscan®系列

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Surfscan®系列

无图案晶圆缺陷检查系统

的Surfscan®未饰化的晶圆检测系统识别影响半导体器件性能和可靠性的缺陷和表面质量问题。通过迅速隔离表面缺陷,它通过合格和监测工具,工艺和材料支持IC,OEM,材料和基板制造。

应用程序

工艺鉴定,刀具鉴定,刀具监控,晶圆出厂质量控制,晶圆出厂质量控制,电阻和扫描仪鉴定,工艺调试。

相关产品

Surfscan SP2XP

针对≥45nm设计节点技术的无图案晶圆检测系统。

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Surfscan SP2:

针对技术≥65nm设计节点的无图形晶圆检测系统。

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Surfscan SP1DLS亲:

针对技术≥90nm设计节点的未取消点化晶圆检测系统。

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Surfscan SP1TBI.亲:

针对≥130nm设计节点技术的无图案晶圆检测系统。

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2835年,2367年

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2835年,2367年

宽带等离子体图案晶圆缺陷检测系统

2835和2367宽带等离子体缺陷检测系统为光学图形缺陷检测提供了工业证明的性能,能够发现和监控≥45nm逻辑、内存和特殊器件的屈服临界缺陷。每个模型都独特地配备了可选择的波长照明,成像像素,光学模式和先进的算法,用于噪声抑制和缺陷分离,为您最关键的水平提供成本效益高的在线检查控制。

应用程序

内联缺陷发现和监控,热点发现,工程分析,过程窗口Qual,照片电池监控。

相关产品

2835:

图案化晶圆检测系统,具有宽带DUV-UV-Visible光谱,针对≥45nm的设计节点。

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2367:

带宽带uv -可见光谱的模版晶片检测系统,目标≥65nm设计节点。

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彪马91 xx

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彪马91 xx

激光扫描晶圆缺陷检测系统

彪马9130和9150激光成像检测仪结合了UV照明光学和多个高速成像传感器,提供了一系列光学模式,用于对图形化的生产晶圆上的关键缺陷进行在线检测。91xx具有高采样率、高吞吐量和高灵敏度,能够更有效地捕获和控制关键的行前端(FEOL)和行后端(BEOL)层上影响产率的缺陷。该91xx补充了KLA 2367全光谱紫外/可见和2835 DUV/紫外/可见亮场检查器的完整混合和匹配模式的晶圆检测策略。

应用程序

线路监视器,工具监控,刀具认证,薄膜缺陷,照片电池监控,ADI。

相关产品

彪马9150:

基于激光成像技术的UV照明硅片检测。9150延伸9130,添加正常的照明,增强的数据速率和新的光学模式,以提高能力。

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彪马9130:

基于激光成像技术的UV照明硅片检测。

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edr.-5210

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edr.-5210

电子束晶圆缺陷审查和分类系统

edr.-5210电子束(电子束)晶圆片缺陷审查和晶圆片分类系统捕获高分辨率的缺陷图像,产生一个晶圆片上的缺陷人口的准确表示。在IC和晶圆制造过程中,eDR与KLA检查员提供了独特的联系,以更快地学习成品率。

应用程序

缺陷成像,自动内联缺陷分类和性能管理,裸晶圆出传出和传入质量控制,晶圆处处,热点发现,缺陷发现,过程窗口发现,过程窗口资格,斜面边缘评论。

edr.®是KLA Corporation的注册商标。beplay体育下载2

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