eSL10
革命性的电子束缺陷检测
加速缺陷发现
今天的尖端集成电路使用复杂的形状和新材料制造，其结构更小、更窄、更高和更深。这种复杂性要求创新的缺陷检查解决方案。eSL10™电子束晶片缺陷检测系统捕获并识别其他检测人员未发现的缺陷，减少解决关键良率或可靠性问题所需的周期时间。通过在芯片制造过程的早期提供对关键缺陷的深入理解，eSL10有助于加快创新电子设备的上市时间。
结果
了解eSL10的革命性技术如何解决与前沿3D NAND、DRAM和逻辑设备制造相关的缺陷挑战。
全面检查组合
eSL10加入了我们的先进检测和审查系统家族，从早期的研发到批量生产，用于逻辑、DRAM和3D NAND设备，检测、识别和寻找关键缺陷。覆盖了芯片制造环境中缺陷发现和监控应用的全部范围，我们全面的产品组合提供信息，帮助IC制造商实现更快的斜坡，提高设备质量和更高的产量。